綜合《The Information》及路透社報道，由上海國企「上海愛晟納電子科技集團」（Shanghai Aishengna）主導的團隊，已開始生產中國自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機。

製造商背景與整合： 上海愛晟納成立於 2023 年 8 月，註冊資本額達 70 億元人民幣，由上海電氣控股及上海國際信托旗下公司等國企持股。該公司整合了上海微電子（SMEE）以及華為供應鏈相關的「宇量昇」等本土曝光機研發團隊。

產能與交付時程： 預計 2026 年內生產約 5 台 DUV 設備，並計劃於年內交付予中芯國際（00981.HK）、華虹半導體（01347.HK）及長鑫存儲（CXMT）等本土晶圓代工與記憶體巨頭進行測試及應用；2027 年產量目標增至約 20 台。

技術差距與挑戰： 業內人士及分析師指出，該設備仍處於早期測試與驗證階段，大部分零件已實現國產化，但部分關鍵零組件仍需依賴進口。其技術規範與荷蘭龍頭艾司摩爾（ASML）的成熟機種（如 Twinscan NXT:1950i）相比仍有顯著差距，在套刻精度、產能吞吐量及晶圓良率等方面仍需長期調校與考驗。

市場反應： 儘管國產 DUV 設備短期內難以完全取代 ASML 的高階產品，但此 breakthrough 為中國晶片製造商提供了西方禁令下的替代選擇。消息引發美歐半導體設備股重挫，ASML 美股當日應聲下跌逾 5% 至 7%。