Benny 
近年來，ASML一直在研發高數值孔徑（High-NA）EUV光刻機，這是其現有EUV技術的升級版，具有更高的精度和解析度，能夠製造更小、結構更複雜的晶片，對於推動半導體技術的發展具有重要意義。
高NA EUV光刻機的價格非常昂貴，每臺約3.8億美元，且需要較長時間和大量成本才能達到全面運營能力。儘管如此，ASML的三大客戶——臺積電、三星和英特爾——都已開始或計畫採用這項技術。
臺積電最初對採用高NA EUV技術持觀望態度，但最新消息顯示，他們將在今年開始下單採購。三星計畫在今年最後一個季度開始訂購這些新機器。英特爾則更為積極，已於今年4月收到首臺高NA EUV光刻機，並計畫採購更多。
這些公司之所以逐漸採用這項技術，原因有幾點：
技術領先：高NA EUV技術是最先進的，對於下一代晶片開發至關重要。在競爭激烈的市場中，保持技術領先是至關重要的。
市場壓力：如果競爭對手成功採用新技術並開始生產更先進的晶片，其他公司可能會被迫跟進，以避免落後。
投資回報：儘管高NA EUV光刻機成本高昂，但它們能夠帶來的回報也是巨大的。例如，臺積電的投資回報率一直保持在較高水準，這表明採用ASML的技術對其業務是有益的。
ASML的業績展望方面，公司管理層預計2024年將是週期的底部，而增長將在2025年回歸。銷售額逐季增長，預計到2025年將進一步增長，主要由高NA EUV推動。此外，ASML的維護收入占總銷售額的25%，這是一個與週期性波動無關的穩定收入來源。
在估值方面，考慮到新EUV機器的訂單和公司今年的指導，以及對未來幾年增長的預期，ASML的股價有可能會進一步上漲。當然，這還需要考慮市場週期性波動和其他可能影響公司業績的因素。
